真空鍍膜設(shè)備是現(xiàn)在市場廣泛用于高端產(chǎn)品如手機，鐘表等。

真空鍍膜設(shè)備的冷卻主要分為兩部分，1、靶材冷卻。2、腔體冷卻

靶材冷卻：在鍍膜過程中靶材的頻率高，電流大，電流在流動過程中會產(chǎn)生集膚效應(yīng)，電流會集中在有點導體的面，導致電導體發(fā)熱，為了保證鍍膜機的長時間連續(xù)性工作所以需要在導體內(nèi)部通冷卻水，給其降溫。

腔體冷卻：鍍膜腔體內(nèi)的溫度通常可以高達800-1200攝氏度，長時間工作會導致腔體高溫，故需要在腔體表面做夾層通冷卻水來進行降溫。

在真空鍍膜機冷水機選型過程需要注意：

1、鍍膜機的功率。

2、冷卻水流量。

3、鍍膜機的腔體直徑。